イオンちゅうにゅう【イオン注入】とは｜一般用語
〔ion implantation〕半導体に不純物を添加する方法の一。不純物をイオン化してビームにし，電気的に制御しながら目的の半導体に注入するので，正確に添加量やその分布を変えることができる。現在の IC 生産技術の中核の一。
イオンちゅうにゅう【イオン注入】｜い｜一般用語集｜用語集｜株式会社渡辺｜問題解決のスペシャリスト集団
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